引言： 06年2月20日，IBM位于加州的Almaden实验室，利用深度紫外线激光刻印技术DUV，制造出了全球目前最小的电路模点，该点的宽度是29.9纳米，仅相当于目前芯片厂在用的最小刻度制作技术的三分之一。
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29.9纳米芯片制造技术研制成功06年2月20日,ibm位于加州的almaden实验室,利用深度紫外线激光刻印技术duv,制造出了全球目前最小的电路模点,该点的宽度是29.9纳米,仅相当于目前芯片厂在用的最小刻度制作技术的三分之一.一纳米相当于一百万分之一米.
（责任编辑:城尘） 【程序编程相关:6509为主网络配置实例】
29.9纳米芯片制造技术是在ibm nemo工具下开发出来的,ibm nemo芯片开发工具由ibm与jsr公司联合研制. 【推荐阅读:一份关于EASE-IP的配置】
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